對模（mó）具（jù）進行拋光的目的主要有兩個：

一、是增（zēng）加塑（sù）料模具光亮度、美觀度（dù）；

二、是使模具更容易脫模。

在進行拋光（guāng）時，一般先使用粗的油石對機械加工的模具（jù）型腔表（biǎo）麵進行粗的打磨，打磨（mó）去機（jī）加刀具的刀痕，然後再使用細的油石（shí）打磨去粗油石打的（de）痕跡，然後再用細（xì）的砂紙（zhǐ）對細油石打磨過（guò）的表麵再進行（háng）打磨，最後再使用拋光膏或研磨膏（gāo）對模具的型腔表麵（miàn）進行（háng）最後的精拋光打磨，最後達到光（guāng）亮如鏡的效果。

日常生活中，我們常見的塑（sù）料模具拋光方式有六種：

1.機械拋光

機械（xiè）拋光是靠切（qiē）削、材料表麵塑性變（biàn）形（xíng）去掉（diào）被拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光方法，一（yī）般使（shǐ）用油石條、羊毛輪、砂紙（zhǐ）等，以手（shǒu）工操作為主，特殊零（líng）件如回轉體表麵，可使（shǐ）用（yòng）轉台等輔助（zhù）工具，表麵質量要求高的可采用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特（tè）製的磨具，在含有磨料的研（yán）拋液中，緊壓在工件被加工表麵上，作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各種拋光方法（fǎ）中最高的。光學鏡片模（mó）具常采用這種方法。

2.化學拋光

化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑麵。這種方法（fǎ）的主要優點是不需複雜（zá）設備，可以拋光形狀複雜（zá）的工件，可以（yǐ）同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液（yè）的配製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數（shù）10μm。

3.電解拋光

電解拋光基本與化學拋光（guāng）相同，即（jí）靠選擇性地溶解材料（liào）表麵微（wēi）小凸出部分，使表麵光滑。與化學拋光相（xiàng）比（bǐ），可以消除陰極反應的影響，效果較好。電化學拋光過程分為兩步（bù）：

（1）宏觀平整。溶解產物向電解液中擴（kuò）散，材料表（biǎo）麵幾何（hé）粗糙（cāo）度下降，Ra>1μm；

（2）微光平整。陽極極化，表麵光亮度提高，Ra<1μm。

4.超聲波拋光

將工件放入磨料懸浮液中，並一起置於超聲波（bō）場中，依靠超聲波的振動作（zuò）用（yòng），使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力（lì）小，不會引起工件變形，但工裝製作和安裝較困難。

超聲波加工可以與化學或電化（huà）學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上，再施加超（chāo）聲波振（zhèn）動攪（jiǎo）拌溶液，使工件表麵溶解產物脫離，表麵（miàn）附近的腐蝕或電解質（zhì）均勻；超聲波在液體中的空化作用還能夠抑製腐蝕過程，利於（yú）表麵光亮化。

5.流體拋光

流體拋光，是依（yī）靠高速流動的（de）液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵（miàn）達到拋光（guāng）的目的。常用（yòng）方法有：磨料（liào）噴射加工（gōng）、液體噴射（shè）加工、流體動力研磨等。

流體動力研磨是由液壓驅（qū）動，使（shǐ）攜帶磨粒的（de）液體介質高速往複流過工件表麵。介質（zhì）主要（yào）采用在較低壓力下流（liú）過性（xìng）好的特殊化合物（聚合物狀物質）並摻上磨料製成，磨料可采用碳化矽（guī）粉末。

6.磁研磨拋光（guāng）

磁研磨拋光，是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，對工件磨削（xuē）加工。這種方法（fǎ）加工效率高，質量（liàng）好，加工條件容易控製，工作條件好。采用合適的磨料（liào），表麵粗糙度（dù）可以達到Ra0.1μm。

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